НИИ молекулярной электроники и завод Микрон (Часть 2)

«СИТРОНИКС Микроэлектроника» — крупнейший в России и СНГ производитель и экспортер микроэлектроники. Головная компания бизнес-направления, ОАО «НИИМЭ и Микрон» — предприятие с почти полувековой историей, технологический лидер российской полупроводниковой отрасли. ОАО «НИИМЭ и Микрон» занимается научными исследованиями, разработкой, производством и реализацией интегральных микросхем, в том числе на экспорт. Часть 1


В 1994 году НИИМЭ и завод «Микрон» были акционированы как единая компания, которая в 1997 году вошла в состав концерна «Научный Центр» (ныне концерн «Ситроникс»).



В июле 2006 года концерн «Ситроникс» подписал соглашение с франко-итальянской компанией ST Microelectronics (STM) о передаче технологий производства микросхем с топологическим размером 0,18 микрон. Производство налажено в одном из цехов завода «Микрон». Заявленная проектная мощность предприятия — 18 тыс. 200-мм пластин в год. Инвестиции концерна в проект составили 200 млн долларов.


12 декабря 2007 года предприятием было объявлено о начале производства микросхем с топологическим размером 0,18 микрон. Предполагается, что чипы, изготавливаемые на «Микроне», найдут своё применение в транспортных картах (в частности, применяемых Московским метрополитеном), паспортах, платёжных картах и т. д. Данная технология также позволяет организовать выпуск микросхем для сотовых SIM-карт, RFID-меток и др.


Стратегическая цель предприятия — доминирование на отечественном рынке и позиционирование в локальных сегментах мирового рынка. С 2006 года ОАО «НИИМЭ и Микрон» реализует проект модернизации производства, в рамках которого был осуществлен уникальный трансфер и освоение технологии 180 нм EEPROM лидера европейской микроэлектроники, компании №5 в мире STMicroelectronics. Поставщиками оборудования и материалов, партнерами по созданию инфраструктуры выступили 42 компании из 10 стран мира. Среди них M+W Zander, Air Liquid, Hager+Elsasser, Applied Materials, ASML и другие.


Сегодня в «чистой комнате», открытой в 2007 году, по данной технологии производят интегральные схемы на пластинах 200 мм для транспортных и смарт-карт, чипы памяти, прототипы интегральных схем для социальных и банковских карт, биометрических паспортов. В 2009 году в партнерстве с государственной корпорацией РОСНАНО начат проект по созданию на базе ОАО «НИИМЭ и Микрон» производственной линейки интегральных схем на основе наноэлектронной технологии с проектными нормами 90 нм на пластинах диаметром 200 мм.